Intel cán mốc một triệu wafer bằng máy quang khắc High-NA EUV
Intel thông báo đã xử lý hơn một triệu tấm wafer 300 mm bằng hệ thống High-NA EUV, vượt qua sản lượng của tất cả đối thủ cộng lại.
Đọc toàn bộ bài viết tại VnExpress →Nội dung tóm tắt bởi Báo Trong Nước, thuộc bản quyền của VnExpress. Vui lòng đọc bài đầy đủ tại trang báo gốc.
